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  • CVDwww.tyc.com
    时间:2024-08-27生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:6836

    CVDwww.tyc.com设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多行业,包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

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  • 1200℃滑动双温区PECVD系统
    时间:2024-05-09生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:8368

    PECVD系统配置:1.1200度开启式双温区真空www.tyc.com2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)

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  • 1200℃双温区CVD系统
    时间:2024-08-27生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:7105

    CVDwww.tyc.com设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多行业,包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

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  • 1200℃预加热滑动双温区PECVD系统
    时间:2024-05-09生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:21887

    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所希望的薄膜。

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  • 1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
    时间:2024-10-28生产地址:天津厂商性质:生产厂家浏览量:5390

    产品用途:此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。

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